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仪器详情
高真空磁控溅射镀膜机
仪器编号
20041416
规格
*
生产厂家
中科院沈阳科仪研制中心
型号
JGP4501
制造国家
中国
分类号
03060302
放置地点
西区理学楼
出厂日期
2004-06-04
购置日期
2004-06-04
入网日期
2022-11-28
仪器详细信息
仪器预约信息
仪器公告
仪器收费标准
主要规格及技术指标
真空度可达5*10E-3,约1个小时左右,所用靶材:直径80mm,采用直流、射频方式溅射镀膜,500W射频源,1KW、2KW直流源。
主要功能及特色
可采用直流和射频两种方式溅射镀膜,分别或者同时溅射。
主要附件及配置
无
公告名称
公告内容
发布日期